四半世紀以上にわたり、当社は不斉合成分野でたゆまぬ研究開発を行ってきました。今後もお客様の製品開発のお役に立てる革新的な技術の探求と創造を続けてまいります。


1980(昭和55)年

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BINAP触媒
  • 野依良治教授グループによるBINAP触媒誕生
  • Rh-BINAP触媒を用いるアリルアミンの不斉異性化反応
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l -メントール
  • l -メントール不斉合成法

1983(昭和58)年

  • 光学分割によるBINAPの工業化
  • 不斉合成法によるl -メントールの初の工業化

1984(昭和59)年

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触媒技術のイメージ
  • Ru-BINAP触媒によるデヒドロアミノ酸の不斉水素化反応

1987(昭和62)年

  • Ru-BINAP触媒によるβ-ケトエステルの不斉水素化反応(J. Am. Chem. Soc. 1987, 109(10), 5856 - 5858.)

1989(平成元)年

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連続フロー反応のイメージ
  • 動的速度論的光学分割 を伴うα-置換-β-ケトエステルの不斉水素化反応
  • 4-Acetoxy azetidinone(4-AA) の合成プロセス開発

1992(平成4)年

  • 光学活性1,2-プロパンジオールの工業化

1993(平成5)年

  • 4-Acetoxy azetidinone (4-AA)の工業化

1994(平成6)年

  • BINAPHOS及びBIPNITE 不斉ヒドロホルミル化反応用配位子開発

1995(平成7)年

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    野依不斉水素化反応触媒 RuCl2(diphosphine)(diamine)による単純ケトンの不斉水素化反応
    • 野依不斉水素化反応触媒 RuCl2(diphosphine)(diamine)による単純ケトンの不斉水素化反応

    1996(平成8)年

    • RuCl2(arene)(sulfonylated diamine)触媒による不斉水素移動反応
    • BINAPの次世代配位子 SEGPHOS® 開発

    2001(平成13)年

    • 野依良治教授、当社社外取締役 ノーベル賞受賞
    • Pdカップリング配位子 BRIDP® 開発

    2002(平成14)年

    • Molecular Chirality Award 受賞 “Development of SEGPHOS”

    2003(平成15)年

    • 還元的アミノ化反応による光学活性なβ-アミノ酸合成

    2005(平成17)年

    • 銅触媒による不斉水素化反応 

    2006(平成18)年

    • Merck’s Suppliers’ Award 受賞

    2007(平成19)年

    • Tetrahedron Most Cited Paper 2004-2007 Award 受賞 “Recent Advances in Biaryl-Type Bisphosphine Ligands”
    • 均一系ルテニウム触媒によるエステル類の水素還元反応

    2008(平成20)年

    • 富士電機株式会社様よりサプライヤー表彰受賞
    • Tetrahedron Most Cited Paper 2005-2008 Award 受賞 “Recent Advances in Biaryl-Type Bisphosphine Ligands”

    2009(平成21)年

    • 2009年OMCOS(グラスゴー) Poster Award 受賞 “An Efficient Synthesis of Chiral Alcohols via Catalytic Hydrogenation of Esters”
    • 日本プロセス化学会サマーシンポジウム優秀賞受賞
    • エステルの触媒的水素還元による光学活性アルコールの合成 (ポスター発表)

    2011(平成23)年

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      Ru-MACHO®
      • 均一系エステル還元触媒 Ru-MACHO® 開発
      • Lilly Global Supplier Award 受賞
      • 均一系アシル化触媒 ZnTAC24® 開発

      2012(平成24)年

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      DENEB®
      • 超高速不斉水素化触媒 RUCY® 開発
      • 超高活性不斉水素移動触媒 DENEB® 開発

      2013(平成25)年

      • 縦型パイプ型連続フロー反応(PFR)装置稼働(高砂ケミカル掛川工場)

      2014(平成26)年

      • 縦型パイプ型連続フロー反応(PFR)装置稼働(磐田工場)
      • Continuously Stirred Tank Reactor (CSTR)および二液向流抽出装置稼働

      2015(平成27)年

      • 磐田工場に第2工場のCSTR棟竣工、連続フロー設備の商業生産開始
      • 3つのGMP医薬品中間体に連続フローを用いてプロセスバリデーションを実施

      2016(平成28)年

      • 磐田工場にアメリカ食品医薬品局(Food and Drug Administration; FDA)による査察 

      2018(平成30)年

      • Lithium aluminum hydride (LAH)を還元剤としてGMPトンスケールの製造を開始
      • 米国FDA(連邦食品医薬品局)及び日本PMDA(医薬品医療機器総合機構)によるGMP査察

      SEGPHOS、BRIDP、Ru-MACHO、ZnTAC24、RUCY 、DENEB は高砂香料工業株式会社の日本およびその他の国における商標あるいは登録商標です。